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半導体業界向け製品・用途紹介
半導体開発/製造・クリーンルームでの露点計・酸素濃度計・温湿度計・風速計
半導体開発/製造プロセスにおいて、パーティクルや水分・酸素などの外乱要因の除去は大きな課題です。外乱除去の確認のため、当社の露点計や温湿度計、酸素濃度計が半導体の製造、搬送、検査等様々な工程で使用されています。 また除湿エアー(ドライエアー)の除湿度や窒素ガス・アルゴンガス・ヘリウムガス・水素ガス等のガス純度測定・管理のためにも使用されています。逆に、水分量が多いことが必要なプロセスもあり、 このプロセスでは、水分量を一定に保つために、露点計による測定が行われます。下記のような製品が主に使用されています。
水分計測
①水分量が極微量(ppb ～ 1桁ppm)で管理されるプロセス
⇒最低-100℃露点まで測定可能なTK-100静電容量式露点計(酸化アルミタイプ)
②水分量が微量(ppm)で管理されるプロセス
⇒最低-60℃露点までのTE-660露点計(高分子タイプ)
③最重要プロセス、露点計の基準器として
⇒-95℃～+99℃露点まで測定できるMBW鏡面冷却式(ミラー式)露点計
④相対湿度レベルの管理が必要なプロセス・クリーンルーム
⇒簡易型のEE060
⑤水分が多い必要があり、一定水分量を管理する必要があるプロセス
⇒高温・高湿下測定を主とする結露防止環境下での対策が施されたEE33温湿度計
酸素濃度計測
①水素置換などによる酸素除去が必要なプロセス
⇒1 ppm以下を確認できる、2001LCガルバニ電池式酸素濃度計
②水素が存在しない状態で微量酸素濃度の測定が必要なプロセス
⇒ppbレベルまで測定可能な、Model 4100ジルコニア式酸素濃度計
風速計測
①クリーンルームや製造装置内で気体の流れが重要になるプロセス
⇒微風計測が可能な風速計
―製品一覧―
【露点計】
■オンライン露点計：TK-100ON
■高分子式露点計：TE-660TR
■ミラー(鏡面冷却)式露点計：MBW973
【風速計】
■風速トランスミッター：EE671
【酸素濃度計】
■ガルバニ式酸素濃度計：2001LC
【温湿度計】
■温湿度計：EE310
■温湿度計：EE08
■温湿度計：EE060/061
【腐食性ガス中水分計】
■腐食性ガス中連続水分分析計：iTMAシリーズ
〇お問合せは九州計測器まで〇
【TEL】092-441-3200
【MAIL】support@qk-net.co.jp
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